CIP在位清洗系統(tǒng)是藥品生產(chǎn)中衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)的前提條件之一，它可以消除活性成分交叉污染，消除異物不溶性微粒。降低或消除微生物及熱源對藥品的污染。CGMP要求盡力推薦制藥工業(yè)使用CIP在位清洗系統(tǒng)。產(chǎn)品具有自動化程度高、操作簡便，清洗徹底、安全性高、價格合理等優(yōu)點。

CIP清洗系統(tǒng)是指設(shè)備（罐體、管道、泵、過濾器等）及整個生產(chǎn)線在無需人工拆卸或打開的前提下，在一個預(yù)定時間內(nèi)，將一定溫度的清潔液通過密閉的管道對設(shè)備內(nèi)表面進(jìn)行噴淋循環(huán)而達(dá)到清洗的目的，特稱CIP在線清洗系統(tǒng)（Cleaning in place）。一個穩(wěn)定的CIP在線清洗系統(tǒng)在于優(yōu)良的設(shè)計，包括設(shè)備、管道、操作規(guī)程、清洗劑配方、自動控制和監(jiān)控要求的一整套技術(shù)系統(tǒng)等。根據(jù)清洗系統(tǒng)的實際情況，確定合適的清洗程序，包括清洗條件確定，清洗劑選擇、回收設(shè)計。并對清洗過程中關(guān)鍵參數(shù)和條件（如時間、溫度、流量、電導(dǎo)率）的記錄、打印，做為設(shè)備清洗過程的驗證。